У Picosun готовы решения для ALD с соблюдением норм 10 нм
Финская компания Picosun, специализирующаяся на выпуске реакторов для атомно-слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition, ALD), сообщила о готовности решений, предназначенных для 10-нанометрового полупроводникового производства.
Как утверждается, не имеющие себе равных наработки Picosun в указанной области позволили предложить совершенно новые инструменты и методы производства, пригодные для производства микропроцессоров, памяти и силовых электронных компонентов, а также многофункциональных датчиков для медицинского оборудования. Разработки выполнены в рамках участия Picosun в шести международных европейских проектах под эгидой Horizon2020 и ECSEL.
Как скоро решения Picosun для ALD в 10-нанометровом полупроводниковом производстве поступят к заказчикам, и где именно они будут установлены — источник не сообщает.
Источник: Picosun
Комментировать
© iXBT
